日米で同時に特許取得可能に　情報共有、取得期間も短縮

　特許庁と米国特許商標庁は２１日、特許の同時申請を８月から受け付けて、審査のための情報を共有することで合意した。審査期間を短くするほか、日米で同時に特許がとれるようにする。企業にとっては日米での商品同時発売などがしやすくなりそうだ。

　特許庁によると、特許当局同士が審査段階で情報を共有する取り組みは、世界初という。

　発表によると、同時申請を受けた発明は両当局が優先的に審査を始め、判断材料となる関連文献や研究論文の調査、同じような特許の有無などの調査情報を共有する。審査そのものは別々にするが、「特許性があるかどうか」の判断も事前に交換する。審査結果は同時に通知するという。