ビジネス短信のコンテンツ一覧 開く

ビジネス短信は70カ所を超えるジェトロ海外事務所の駐在員から送られる国際ビジネス関連ニュースです。

過去記事一覧

一覧を見る

特集

ジェトロ・メンバーズ向け

その他コンテンツ

国・地域別記事一覧

産業別記事一覧

テーマ別記事一覧

閉じる

半導体研究機関imec、半導体製造装置大手ASMLと戦略的パートナーシップ締結

（ベルギー、オランダ）

ブリュッセル発

2025年03月19日

ベルギーのナノエレクトロニクスとデジタル技術分野の世界的な研究機関imec（アイメック、本部：ルーバン）は3月11日、オランダの半導体製造装置大手ASMLと戦略的パートナーシップを締結したと発表（プレスリリース外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます）した。

5年契約で、半導体産業を発展させる技術と持続可能なイノベーションに焦点を当てた開発を目指す。具体的には、ASMLの強みである極端紫外線（EUV）露光装置や計測・検査システムなどを、imecの最先端試作ライン（2024年5月27日記事参照）に設置し、回路線幅が2ナノメートル以下の最先端半導体の研究開発のためのインフラを提供する。重点分野には、シリコンフォトニクスやメモリー、先進パッケージングも含まれ、多様な市場が見込まれる人工知能（AI）アプリケーション向けのイノベーションの提供を目指す。

今回の取り組みは次世代半導体の試作ライン整備（2024年10月29日付地域・分析レポート参照）の一環で、「欧州共通利益に適合する重要プロジェクト（IPCEI）」としてEUの半導体共同事業体（Chips JU）とフランダース政府、オランダ政府も資金提供する。なお、最先端半導体の量産に対応したASML製のEUV露光装置は、日本ではラピダスに初めて導入（2025年2月19日付地域・分析レポート参照）されている。

imecとASMLは今回のパートナーシップに先駆け、2024年6月にはオランダ南部のフェルドホーフェンに共同で最先端の「高性能EUV露光装置（High NA EUV Lithography）研究所」を開所し、2025～2026年の量産開始に向け提携している。

（大中登紀子）

（ベルギー、オランダ）

ビジネス短信　251c8a84a1bde856