最終更新日：2023/7/4

日本真空光学(株)

  • 正社員

業種

  • 半導体・電子・電気機器
  • 精密機器
  • 受託開発
  • 商社（電子・電気機器）

基本情報

本社
東京都、静岡県
資本金
2億1,000万円
売上高
2022年度実績　23億3,100万円
従業員
129名（2023.02.01現在）
募集人数
1～5名

21世紀の電子光工学を牽引する光学薄膜専門メーカー。ここなら、光の不思議に夢中になれる。【＃静岡＃御殿場＃東京本社＃光＃理系＃開発＃車通勤】

7月の説明会日程公開しました！ぜひご予約ください！ （2023/07/04更新）

こんにちは。採用担当の勝又です。

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〒412-0006
静岡県御殿場市中畑1413
日本真空光学(株)
業務管理部総務課　勝又
E:mail　shinya.katsumata@ocj.co.jp
TEL (0550)-89-0230
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会社紹介記事

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将来性あふれる光業界の老舗であり、世界に名だたるAGCグループの一員です。個々が自らの能力を発揮し、可能性を余すことなく高められる環境を提供しています。
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ハワイ島天文台の大型望遠鏡のために開発した直径600mmの特殊なフィルター。その他、ロケット搭載の光学製品なども手がけ、宇宙・天文の先端分野を支えています。

光の未来に、君の未来を。

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社会人になる方に私が贈りたい言葉は「挑戦」です。失敗しても、その失敗から学びとり、立ち止まることなく挑戦を続けてほしい。これからは会社も個人も変わり続けなくてはなりません。当社の場合、時代の動き以上の速さで変化・進化している光の業界ですから、なおさらです。

わが国の光技術は強い国際競争力を持っています。その一翼を担う当社は、光の主要技術である「光学薄膜」のメーカーです。お客様は日本を代表する企業300社以上に及び、しかも今後における成長分野の大半を網羅しています。まず半導体。さらに自動車、医療、セキュリティ関連など。また、ユニークなものとして宇宙・天文の領域があり、ロケットに搭載するフィルターや、ハワイ島山頂のすばる天文台の大型望遠鏡に直径600mmの特殊フィルターを開発した実績もあります。海外の取引先は、まだ全体の3割程度にとどまりますが、その比率はさらに高まる傾向です。

なぜ、当社は高難度な挑戦を成功へ導けるのか。理由は2点挙げられます。その一つは、製造装置から独自に創造することです。世界にオンリーワンの装置でなければ、お客様が求めるオンリーワンの製品を生み出すことはできません。もう一つは、技術者各自がお客様に寄り添い、開発、設計、製造までかかわることです。お客様とダイレクトに接することは、ニーズを正しく深く理解・把握して、世の中にない新しいものづくりの実現をもたらします。モチベーションは必然的に高まり、挑戦することに夢中になります。その結果、自らの成長を実感し、それがさらなる挑戦意欲を引き出すのです。

光の業界は将来性にあふれています。その中でも当社は、個々の能力を思う存分発揮でき、自らの可能性を切り拓けるフィールドです。人生を描くことの楽しさ、面白さに出会えます。
世界へ、未来へ、光の先端技術シーンで、あなたの存在を輝かせてみませんか。

≪代表取締役社長・和田 賢憲≫

会社データ

プロフィール

光学薄膜の黎明期より現在に至るまで、一貫して光学薄膜専門メーカーとして歩んで参りました。
創業以来、薄膜設計技術、コーテイング技術、プロセス制御技術を3本柱として、また匠の意識の高揚に力を注ぎ、他の追随を許さない光学薄膜メーカーとなっており、薄膜のエキスパートとして光を媒体にして社会に貢献できているものと、確信しております。
当社はUVからIRに至る波長領域、あらゆる光学応用分野（医療、計測、映像、露光…）のコーティングプロセスを有し、お客様のニーズに対応できる事を最大の強みとしています。
これからも、世界の最先端の薄膜技術に目を向けながら、Innovative global productsの開発を目指し、常に世界のトップ集団に伍して走り続けていくつもりであります。
事業内容
薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売
他社製品の販売及び開発受託業務

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大学で光を専門的に学んだ人は少ないかもしれませんね。それなら会社に入ってから光を好きになればいい。当社なら想像以上に光を好きになれますよ。
本社郵便番号 100-8405
本社所在地 東京都千代田区丸ノ内一丁目5番地1号
新丸ノ内ビルディング
本社電話番号 03-3218-7998
御殿場工場郵便番号 412-0006
御殿場工場所在地 静岡県御殿場市中畑1413
御殿場工場電話番号 0550-89-0230
設立 1960年10月21日
資本金 2億1,000万円
従業員 129名（2023.02.01現在）
売上高 2022年度実績　23億3,100万円
事業所 本社：東京都千代田区丸の内1丁目5番地1号　新丸の内ビルディング
御殿場工場：静岡県御殿場市中畑1413番地
沿革
  • 1946年
    • 神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を設立
  • 1952年
    • 「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転
  • 1960年
    • 「(株)湘南光膜研究所」より多層膜光学部門を分離。「日本真空光学(株)」を設立
  • 1961年
    • 新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受注
  • 1963年
    • 「多層薄膜光学製品」開発完了。「遮光眼鏡レンズ」の開発
  • 1969年
    • 「多層薄膜製造用膜厚監視装置の開発」により、科学技術庁長官賞を受賞
  • 1971年
    • 「高性能レーザーミラー」の開発
  • 1977年
    • 「エキシマレーザーミラー」の開発
  • 1980年
    • 「高耐久性深型コールドミラー」の開発
  • 1986年
    • 三重県久居市に子会社「伊勢真空光学(株)」を設立
  • 1990年
    • 「高周波によるイオン衝撃装置」の国内特許取得。
      「Ion Bombardment Device with High Frequency」の米国特許取得。
  • 1992年
    • 旭テクノグラス(株)（旧：岩城硝子(株)と資本提携
  • 1997年
    • 「光通信用狭帯域BPF」の開発
  • 1998年
    • 子会社「伊勢真空光学(株)」を吸収合併し、三重工場とする
  • 2003年
    • タイ工場稼働開始
  • 2004年
    • 量産品種をタイ工場へ移管し三重工場を閉鎖
  • 2004年
    • ISO9001:2000 UKASの認定取得
  • 2006年
    • ISO14001:2004 UKASの認定取得
  • 2006年
    • 新開発「高周波イオンプレーティング装置」の国内特許取得
  • 2007年
    • 新技術センター竣工(クリーンルーム仕様）
  • 2011年
    • 東京都千代田区丸の内へ本社を移転

働き方データ

  • 平均勤続勤務年数
    平均勤続勤務年数
    • 19.3年
    2022年度
  • 月平均所定外労働時間（前年度実績）
    月平均所定外労働時間（前年度実績）
    • 16.1時間
    2022年度
  • 平均有給休暇取得日数（前年度実績）
    平均有給休暇取得日数（前年度実績）
    • 14.6日
    2021年度
  • 前年度の育児休業取得対象者数（男女別）
    前年度の育児休業取得対象者数（男女別）(女性) 前年度の育児休業取得対象者数（男女別）(男性) 前年度の育児休業取得対象者数（男女別）(合計)
    対象者 0名 3名 3名
    2022年度
  • 前年度の育児休業取得者数（男女別）
    前年度の育児休業取得者数（男女別）(女性) 前年度の育児休業取得者数（男女別）(男性) 前年度の育児休業取得者数（男女別）(合計)
    取得者 0名 2名 2名
    2022年度
  • 役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    • 6.3%
      （32名中2名）
    • 2022年度

社内制度

研修制度 制度あり
幅広くの知識を学んで頂く事を目的とし3～6カ月間の現場研修を行います。その後、技術系総合職として職務につき、配属先の先輩社員指導のもとで、本人の意思と適性で技術系専門職として特化した知識や技術を磨いて頂きます。
自己啓発支援制度 制度あり
自己啓発助成金制度…従業員の自己啓発による、教養、職務能力の多様化を推奨する為助成金を支給します。
メンター制度 制度なし
キャリアコンサルティング制度 制度なし
社内検定制度 制度なし

採用実績

採用実績（学校）

＜大学院＞
金沢工業大学、佐賀大学、東海大学、東京理科大学、東洋大学、三重大学、明治大学
＜大学＞
大阪電気通信大学、岡山理科大学、金沢工業大学、近畿大学、駒澤大学、静岡大学、東海大学、東京外国語大学、東京理科大学、東洋大学、日本大学、法政大学、山形大学、山梨大学、山梨学院大学、産業能率大学、明治大学、武蔵野大学
採用実績（人数） 　　　2018年　2019年　2020年　2021年　 2022年
-----------------------------------------------------------------
大卒　　　1名　　　1名　　　1名　 　1名　 　 1名
短大卒　 　 ―　　　 ―　　　 ―　　　 ―　　　 ―
  • 過去3年間の新卒採用者数（男女別）
    過去3年間の新卒採用者数(男性) 過去3年間の新卒採用者数(女性) 過去3年間の新卒採用者数(合計)
    2022年 1名 0名 1名
    2021年 1名 0名 1名
    2020年 1名 0名 1名
  • 過去3年間の新卒採用者数
    採用者 過去3年間の新卒採用者数
    2022年 1名
    2021年 1名
    2020年 1名
  • 過去3年間の新卒離職者数
    離職者 過去3年間の新卒離職者数
    2022年 0名
    2021年 0名
    2020年 0名

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