プレエントリーとは、「御社に興味があります」という意思表示です。エントリーシートの提出締切や説明会・面接開催情報を企業から受け取ることができます。
「チャレンジ」「スピード」「フレキシブル」を合言葉に、半導体製造装置向けの排ガス処理装置の製造・販売が主な事業内容です。また、大気・水質汚染防止装置や廃棄物処理装置など、半導体産業(半導体およびLCD製造ライン)の環境保全に必要不可欠な製品もつくっています。中国・台湾に拠点を展開するほか、近年は長崎や宮城にも事務所を開設。アメリカ進出も視野に、今後さらなる業務拡大を目指し、日々事業に邁進しています。
排ガス処理装置、大気汚染・水質汚染防止装置、産業廃棄物処理装置など、環境保全に必要不可欠な製品を開発・製造・販売している当社。半導体産業(半導体およびLCD製造ライン)で活躍する、大手メーカーを中心としたお客様の抱える問題を解決する製品づくりを行っています。環境問題は、産業活動を行ううえで必ずと言っていいほどついて回る問題です。そんな問題を解決できる、お客様の役に立つ企業でありたいと考えています。
人生で長い時間を使う仕事だからこそ、仕事において「楽しさ」は大切ではないでしょうか。もちろん、肉体的に大変なことがあったり、ときには忙しい、苦しいと感じたりすることもあると思います。でも、根源に「楽しさ」があれば、仕事を好きだと感じることができ、結果、より良い製品を生み出せたり、お客様に「驚きと満足」を提供することができたりすると考えています。だから当社では、仕事を楽しんでいる先輩が多数。職場の雰囲気も明るく、団結力も高いのが特徴です。世話好きな人ばかりなので、わからないことはなんでも聞ける社風。入社したみなさんもすぐに馴染んでいただけると思います。ぜひ、当社で一緒に楽しく働きませんか?
入社されるみなさんには、総合職として活躍していただき、将来事業の中核を担う人材へ成長してほしいと考えています。入社後まずは、研修で各部署の業務を体験するところからスタート。営業、生産、メンテナンスなど、さまざまな業務に挑戦していただき、会社のなかでどんな仕事があるのかを理解していってください。そして、自分にどんな仕事が合っているのかを見極めていきましょう。研修終了後は、希望や適性を考慮して正式な配属が決定。クリーン・テクノロジーの「多能工」を目指し、様々な業務を通し、経験して仕事の幅を広げることも可能です。ぜひ、あなたが理想とするキャリアを描いていってください。
| 事業内容 | 大気汚染防止装置の製造および販売
水質汚染防止装置の製造および販売 廃棄物処理装置の製造および販売 騒音防止装置の製造および販売 振動防止装置の製造および販売 半導体製造装置の製造および販売 半導体試験装置の製造および販売 【取得許可】 産業廃棄物運送業・保管業 |
|---|---|
| 設立 | 1990年2月 |
| 資本金 | 6000万円 |
| 従業員数 | 66名(2022年3月時点) |
| 売上高 | 非公表 |
| 代表者 | 代表取締役 淡路 敏夫 |
| 事業所 | 本社/大阪府泉佐野市日根野3209番地1
熊本営業所/熊本県菊池郡大津町大字杉水字下源場788番地1 長崎営業所/長崎県諫早市森山町本村879番地1 宮城営業所/宮城県亘理郡山元町高瀬字西山下1番地61 神奈川営業所/神奈川県中郡大磯町月京32番3 中国 上海事務所/Shanghai office313, SenBen Plaza, 567 Tianyaoqiao Road, Xuhui District, Shanghai China 中国 厦門事務所/No.133-1, Xilucun linlizhongxin, Maxiangzhen, Xiang’an District Xiamen city, 361101 China 台湾 台南事務所/No.149, Zhongxiao St., Xinshi Dist., Tainan City 744, Taiwan(R.O.C.) 台湾 新竹事務所/No.5, Jiafeng 10th Rd., Zhubei City, Hsinchu County 302, Taiwan(R.O.C.) 【関連会社】 クリーン・メンテナンス株式会社 ニュー・テクノロジー株式会社 日商澄明科技有限公司 Clean Technology Korea Co., Ltd. |
| 沿革 | 1990年2月/資本金500万円をもって設立(大阪府堺市新家町)
1990年8月/排ガス処理装置1号機「TLV-AF」開発 1990年10月/粉体除去装置開発 1991年1月/排ガス処理装置全自動タイプ「TLV-AFN」開発 1991年2月/資本金2000万円に増資 1991年5月/排ガス処理装置低価格タイプ「TLV-M-AN」「TLV-MW-AF」開発 1992年1月/メンテナンス工場完成 1992年2月/排ガス処理装置小型全自動タイプ「TLV-AFNX」開発 1994年4月/新社屋完成移転(大阪府堺市東山) 1994年5月/排ガス処理装置輸出モデル「TLV-AFCX」「TLV-AFCWX」開発 1995年2月/資本金5000万円に増資 1995年6月/九州営業所開設(熊本県菊陽群菊陽町) 1995年11月/本社社屋増築完成(大阪府堺市東山)、深井工場完成 1996年10月/フロン処理装置・水スクラバ開発 1996年11月/半導体用排気ラインフィルタ「バリヤトロン」、自動配管クリーニングシステム「ダクトロン」、半導体用バキュームユニット「セルペンス」開発 1996年12月/関東営業所開設(神奈川県相模原市当麻) 1999年5月/ドライエッチング用排ガス処理装置「テクノクリーン」開発 2000年1月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウス」開発、湿式排ガス処理装置「アクア」開発 2000年2月/排気切替えユニット「テクノチェンジャー」開発 2000年12月/湿式排ガス処理装置「アクアII」開発 2001年7月/配管内コーティング「CTコート」販売開始 2001年9月/配管用ジャケット式ヒータ「CTジャケット」開発 2002年1月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスPA」開発 2002年12月/湿式排ガス処理装置「アクアIII」開発 2003年3月/関東営業所移転(神奈川県伊勢原市東成瀬) 2004年 9月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザー」開発 2005年12月/半導体用水中掃除機「アクアクリーン」開発 2006年 5月/半導体用VOC処理装置「レグルス」開発 2006年12月/プラズマ式排ガス処理装置「サンダー」開発 2007年4月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーネオ」開発 2007年5月/新社屋完成移転(大阪府泉佐野市日根野)、ヒータ式排ガス処理装置「シリウスプリンツ」開発 2008年2月/ISO9001、14001を取得 2008年8月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーギガント」開発 2008年12月/クリーン・テクノロジー株式会社、ニュー・テクノロジー株式会社合併。資本金6000万円に増資 2009年10月/ヒータ触媒式排ガス処理装置「ナイトクリーン」開発 2011年11月/九州営業所移転(熊本県菊池郡大津町) 2013年4月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズ」開発 2015年7月/プラズマ式排ガス処理装置「ラフォック」開発 2016年9月/プラズマ式排ガス処理装置「デュアルサンダー」開発 2017年4月/ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズII」開発 2017年6月/湿式粉体処理装置「コトル」開発 2020年1月/本社3階生産現場増設 2021年6月/長崎営業所開設 2021年9月/関東営業所移転 2022年1月/宮城営業所開設 |
| 主要納入先 | 旭化成グループ
キヤノングループ コーデンシグループ シャープグループ 新電元グループ 新日本無線グループ エプソングループ 産業技術総合研究所 ジャパンディスプレイグループ 住友電工グループ 新光電気グループ ソニーグループ 大日本印刷グループ 凸版印刷グループ TIグループ デンソーグループ 東芝グループ トヨタグループ 京セラグループ パイオニアグループ 浜松ホトニクス 日立グループ フェニテックセミコンダクターグループ 富士通グループ 富士電機グループ マイクロンテクノロジーグループ パナソニックグループ 各種大学 日東電工グループ 三菱グループ ミツミグループ 村田製作所グループ ヤマハグループ リコーグループ ルネサスグループ ロームグループ ASMC He Jian TSMC Nanya Power chip SAMSUNG SMIC SINGAPORE POLYTECHNIC UMC Winbond (敬称略) |
| 企業HP | http://www.clean.co.jp/
https://clean-hineno.jbplt.jp/ |
※リクナビ2023における「プレエントリー候補」に追加された件数をもとに集計し、プレエントリーまたは説明会・面接予約受付中の企業をランキングの選出対象としております。