最終更新日:2022/1/17

アリオス(株)【オーエスジーグループ】

業種

  • 半導体・電子・電気機器
  • 精密機器
  • 機械
  • 機械設計
  • 受託開発

基本情報

本社
東京都
資本金
1,500万円 (※オーエスジー株式会社(東証一部上場)グループ)
売上高
4億7,200万円(2021年11月実績)
従業員
35名

最先端の研究開発分野に貢献し続けて今年で50年周年。『令和3年度表面技術協会 技術賞』『2021年度日本質量分析学会 会誌賞』受賞!

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会社紹介記事

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IWPPI2018展示会場、アリオスブースにて。新製品や新技術をご紹介するため国際会議や学会講演会を含め各種展示会に出展しています。
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お客様のクリーンルームにて超高真空蒸着装置の設置作業を終えたところです。

超高真空技術・プラズマ技術で最先端の研究開発を支え続けて50年

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プラズマの光は新素材やデバイスの開発から殺菌・洗浄・照明など身近なところまで、さまざまな分野で役立っています。

■真空・プラズマ技術×研究開発
今では当たり前のインターネット、パソコン、スマートフォンも数十年前は「未来の道具」。長年の研究を経て実用化されました。そうした研究に必要な研究開発用装置をご提供するのが私たちのシゴト。「真空」「プラズマ」の技術を武器に、今では宇宙開発、半導体、自動車、医療、食品と幅広い業界の日本を代表するトップ企業や国の研究機関、大学まで多くのお客様の研究を支えています。
まさに私たちは「未来の道具を生み出す四次元ポケット」をつくっていると言っても過言ではありません。

■唯一無二の装置とお客様との絆
四次元ポケットから出る道具が多岐にわたるように、お客様の研究内容によって必要な装置・機材は異なるので手掛ける装置の大半は唯一無二のオーダーメイド。毎度ゼロからお客様と打合せを繰り返し装置を設計するのでお客様との信頼関係は最も大切です。
つい先日、トヨタ自動車様、中外炉工業様とともに『令和3年度表面技術協会 技術賞』を、山梨大学の平岡先生を筆頭としたチームの一員として『日本質量分析学会 会誌賞』を受賞。お客様とのチームワークが存分に発揮されたからこその受賞は私たちの誇りです。
またあらゆる業界で研究開発段階から市場リリースまでのスピードが格段に上がっているので、弊社でも生産工程を意識した装置づくり等、生産用途までトータルでサポートできる体制を取っています。

■人工ダイヤモンドへの挑戦
一方、当社オリジナル製品の開発にも注力をしています。その一つが人工ダイヤモンド製造(成長)装置。
1950年代に人工的にダイヤモンドを製造(成長)する方法が見つかり、今や世界中で研究・製造(成長)が盛んに行われています。中でもダイヤモンドの特性を活かした次世代の究極の半導体開発には多くの期待が寄せられています。
また宝石業界でも、鉱山での不当労働や環境破壊と離れたエシカルで安価な人工ダイヤモンドは意識の高い方々や若者から注目の的。
弊社装置はすでに世界最高レベルの成長速度を持っており、今後は効率的な大面積化を目指し日々研究を続けています。

さらに今後はSDGsを中心としたサスティナブル社会への貢献やeスポーツ等の新業界へのチャレンジを模索しながら、研究開発者の伴走者として、そして日本の科学技術の発展に寄与する一員として走り続けていきます。

会社データ

事業内容
真空・プラズマ技術のプロとして、研究開発の第一線に研究開発用機材をご提供しています。これまでお客様のご要望に沿いさまざまな装置・コンポーネントを手掛けてきました。もしかしたらあなたの身近なものも、アリオスの装置で研究されたり生産されたりしたものかもしれません。

<事業内容のご紹介>
・超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計・製造・販売
・生産技術、生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託

<具体的な製品のご紹介>
▽装置▽ 
・超高真空排気装置
・MBE装置
・マイクロ波プラズマ実験装置
・RFプラズマ実験装置
・ダイヤモンド合成用MP-CVD装置、HFCVD装置
・ダイヤモンド基板用ヘテロエピ成長装置
・スパッタ装置(小型、中型、大型、粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置等)
・プラズマCVD装置
・真空アニール装置
・大気圧プラズマ実験装置
・スペースチャンバー
・昇温脱離ガス分析装置
・エアロゾルサンプラー  
  ・・・他多数。ほとんどの装置が一品一様のオーダーメイド。

▽プラズマ関連ユニット▽
・グリッドレスイオン源
・マイクロ波ラジカル源
・マイクロ波イオン源、
・超小型マイクロ波プラズマ源、
・RFプラズマ源、
・小型RFプラズマ源
・RFラジカルビーム源
・分子線セル
・EB蒸着源
・E型電子銃
・導波管部品
・同軸用スリースタブチューナー
  ・・・カタログ商品として多くの企業・研究機関・大学様に納入。

▽コンポーネンツ▽
・超小型回転導入機
・ビューポートシャッター
・ロードロックハッチ
・簡易型XY機構
・Zステージ
・XYZステージ
・トランスファーロッド
・チャッキングトランスファー
・タイミングリークバルブ
・インターロックバルブ
 ・・・カタログ商品として多くの企業・研究機関・大学様に納入。

▽分析・計測機器▽
・シングルラングミュアプローブ
・マルチポイントラングミュアプローブ
・ビームフラックスモニター
・RHEEDシステム
・RHEEDスクリーン
 ・・・カタログ商品として多くの企業・研究機関・大学様に納入。

▽サービス▽
・オーダーメイド設計
・メンテナンス・改造
・各種装置移設
・研究開発受託用務・コンサルティング
 ・・・時には他社製装置の移設や改造も承っています。

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アリオスはお客様の多様なニーズにお応えするために様々な実験装置を設計製造しています。また、独自技術の研究開発にも力を入れております。

本社郵便番号 196-0021
本社所在地 東京都昭島市武蔵野3-2-20
本社電話番号 042-546-4811 
設立 1972年8月12日
資本金 1,500万円 (※オーエスジー株式会社(東証一部上場)グループ)
従業員 35名
売上高 4億7,200万円(2021年11月実績)
事業所 ◇本社
  :東京都昭島市
◇東海営業所
  :愛知県豊川市
株主構成 オーエスジー(株)(東証一部上場)100%
平均年齢 39歳
沿革
  • 1972年
    • 研究用機器の設計、製造、販売を主体として大誠産業(株)を東京都調布市に設立
  • 1980年
    • 水素メーザ原子周波数標準器量子系開発
  • 1985年
    • MBE装置関連事業開始
  • 1988年
    • 昭島市中神町に工場新設
  • 1992年
    • 副標準電離真空計管球VS-1A開発
  • 1993年
    • 昭島市武蔵野に本社、工場を移転統合
  • 1995年
    • CVD装置関連事業開始
  • 2001年
    • アリオス(株)に改名
      「ARIOS」商標登録
      東京都の中小企業経営革新計画承認
  • 2003年
    • 電離真空計に関する特許取得
  • 2004年
    • 環境マネジメントシステムISO14001認証取得
  • 2006年
    • プラズマ源に関する特許取得
      JST「先端計測分析技術・機器開発事業」に参画
  • 2007年
    • JST「産学共同シーズイノベーション化事業」に採択
  • 2008年
    • 文部科学省「安全・安心科学技術プロジェクト」に採択
      NEDO「エコイノベーション推進事業」に採択
  • 2009年
    • 大気圧プラズマ源に関する特許取得
  • 2010年
    • 窒化炭素の製造方法に関する特許取得
      経済産業省「特定研究開発等計画」認定
      「戦略的基盤技術高度化支援事業」に採択
      JST「A-STEP(FS)」に採択
  • 2011年
    • ダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許取得
  • 2012年
    • 工場を増築し、社内設備の大幅改善を行う
  • 2013年
    • 中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」に採択
      JST「A-STEP ハイリスク挑戦タイプ」に採択
      マイクロ波化学反応装置に関する特許取得
      ナノ粒子製造装置に関する特許取得
  • 2014年
    • 液中プラズマ処理装置に関する特許取得
      窒化シリコン基板の作成方法に関する特許取得
  • 2015年
    • 東海営業所開設
      原子フラックス測定装置に関する特許取得
      金属回収方法及び金属回収装置に関する特許取得
  • 2016年
    • JST「戦略的イノベーション創出推進プログラム」に参画
      ダイヤモンド基板に関する特許取得
  • 2017年
    • オーエスジー(株)(東証一部上場)の連結子会社となる
      液中プラズマ処理装置及び液中プラズマ処理方法に関する特許取得
  • 2018年
    • 酸化タングステン及び金属タングステン微粒子の製造方法とそれにより得られる微粒子に関する特許取得
  • 2019年
    • ダイヤモンドの製造方法に関する特許取得
      プラズマ化気相成長装置に関する特許取得
  • 2020年
    • 「令和3年度表面技術協会・技術賞」を受賞
      プラズマCVD装置及びダイヤモンドの成長方法に関する特許取得

働き方データ

  • 平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    平均有給休暇取得日数(前年度実績)
    • 12日
    2020年度
  • 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)
    前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(女性) 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(男性) 前年度の育児休業取得対象者数(男女別)(合計)
    対象者 1名 1名 2名
    2020年度
  • 前年度の育児休業取得者数(男女別)
    前年度の育児休業取得者数(男女別)(女性) 前年度の育児休業取得者数(男女別)(男性) 前年度の育児休業取得者数(男女別)(合計)
    取得者 1名 0名 1名
    2020年度
  • 役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    役員及び管理的地位にある者に占める女性の割合
    • 14.3%
      (7名中1名)
    • 2020年度

会社概要に記載されている内容はマイナビ2022に掲載されている内容を一部抜粋しているものであり、2023年卒向けの採用情報ではありません。企業研究や業界研究にお役立てください。

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