明日の半導体作業が何を必要とするようになり私達が貢献できる事は何か。弊社は創業以来、常に未来をみつめながら研究開発に取り組んでまいりました。
半導体産業の驚異的な技術革新によって、あらゆる市場ニーズに対応するために、コストパフォーマンスに優れた製品をオーダーメイドで提供することにより高い評価をいただいております。
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- 社 名
- 株式会社ギガテック
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- 創 業
- 1993年9月
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- 資本金
- 1,000万円(1993年9月)
2,000万円(1997年10月)
4,000万円(1998年9月)
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- 従業員数
- 約40名
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- 事業内容
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半導体製造装置設計製作
太陽電池
有機EL用各種洗浄装置設計製作
合成樹脂加工製品
クリーンルーム周辺機器、備品
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- 事業所
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- 本社・工場
- 東京都町田市小山ヶ丘2-3-10
1,031m²
クリーンルーム(クラス1000)
148m²
DIW製造設備 比抵抗 18MΩ
2005年9月に完成した新社屋にはクリーンルームを完備しております。
クリーンルーム class10000
(実効class1000) 23℃±2℃
洗浄度 ISO-クラス7
(クラス10000-0.5um以上粒子)
プロセスDIW製造設備
比抵抗 18MΩcm
容量 0.3?／h
パーティクル 30個/ml(≧20um)
生菌 0.5個/ml
TOC 100ug/L - 群馬事業所
- 群馬県太田市龍舞町5299
458m²
DIW製造設備 比抵抗 18MΩ
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- 認証取得
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- ISO14001
- 2008年8月8日 取得
- ISO9001
- 2011年8月3日 取得
