複写機の現像域における電位分布の数値解析:— コントラストポテンシャルについて — Numerical Analysis on Potential Distribution in the Development zone of a Copying Machine and its effect on the contrast potential

この論文は，複写機の現像空間における電位分布を有限要素法を用いて解析したものである．計算にあたって，感光体表面上に方形の潜像電荷を仮定した．計算の結果，電位は潜像部の中心点で最大となるが，非潜像部においては現像空問内にその点が移る．また，電界は最外部の電荷パターンの外側で最大となり，静電潜像の中心部に近づくにしたがって弱まる傾向にある．そして，電界の方向は潜像中心から非潜像の中心に移動する間に180度変化する．<BR>次に，静電コントラストを求める式を導出し，数値解析と比較したところ非常によく一致した．静電コントラストを増すのに有効なパラメータはバイアス電圧<i>V</i>_B，感光体と現像空間との比誘電率の比ε_r2/ε_r1，感光体膜厚<i>L</i>，実効電位<i>V</i>_Rであることがわかった．

The potential distribution in the development zone of an electrophotographic copying machine is analysed using finite element method (FEM).<BR> In the calculation, a finite rectangular wave form pattern is assumed for the latent image on the photosensitive film. It is found that while the potential reaches a maximum at the center of the charged regions of the rectangular wave form pattern, a maximum also exists in the uncharged regions and that it shifts to the development space. At the same time, the electric field reaches a maximum outside the outermost charged pattern. In moving along the surface of the photosensitive film from the center of a charge region to that of the uncharged region, the field charges its direction by180°.<BR> A new equation for evaluating contrast potential is deduced. The effect of bias voltage, ratio of dielectric constant of the film and that of the development space, film thickness, and contrast potential are descussed.