シリコン集積回路素子微細化のための浅い接合形成技術の研究 シリコン シュウセキ カイロ ソシ ビサイカ ノタメノ アサイ セツゴウ ケイセイ ギジュツ ノ ケンキュウ

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書誌事項

タイトル

シリコン集積回路素子微細化のための浅い接合形成技術の研究

タイトル別名

シリコン シュウセキ カイロ ソシ ビサイカ ノタメノ アサイ セツゴウ ケイセイ ギジュツ ノ ケンキュウ

著者名

獅子口, 清一

著者別名

シシグチ, セイイチ

学位授与大学

奈良先端科学技術大学院大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第346号

学位授与年月日

2003-09-30

注記・抄録

博士論文

identifier:https://library.naist.jp/mylimedio/dllimedio/show.cgi?bookid=100042581&oldid=78880

identifier:https://library.naist.jp/mylimedio/dllimedio/show.cgi?bookid=100042582&oldid=94491

2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000243704
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000244326
  • DOI(JaLC)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000004286629
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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