CVD ライン



装置 熱分解CVDライン
できること カーボンナノチューブの合成
メーカー 自作
機種名 なし
使用開始年月日 2000年8月
特徴 反応管:1インチ石英管
電気炉:最高1100度
ガス:メタン、アセチレン、窒素


装置 熱分解CVDライン
できること カーボンナノチューブの合成
メーカー 自作
機種名 なし
使用開始年月日 2001年8月
特徴 反応管:直径5cm石英管
電気炉:最高1100度
ガス:プロピレン、窒素


装置 マイクロ波CVDライン
できること ダイヤモンドの合成
ホウ素ドープダイヤモンドの合成
メーカー 自作
機種名 なし
使用開始年月日
特徴


装置 プラズマCVDライン
できること 表面フッ素処理
メーカー 自作
機種名 なし
使用開始年月日
特徴 フッ素源: SF6