ニュース 室温で強磁性と強誘電性が共存、次世代磁気メモリーへ期待 工藤 宗介=技術ライター 2016/12/22 09:38 室温で強磁性と強誘電性が共存、次世代磁気メモリーへ期待 東京工業大学と名古屋工業大学らの研究グループは2016年12月21日、セラミックス結晶中に磁石の性質(強磁性)と電気を蓄える性質(強誘電性)が室温において共存することを確認したと発表した。新しい原理に基づく、低消費電力かつ高速アクセス、大容量の次世代磁気メモリー開発につながると期待される。