酒井智弘さん の 公開公報一覧 登録公報一覧

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  1. 赤外線吸収粒子とその製造方法

    【課題】赤外線吸収粒子層の形成性等に優れ、かつ製造コストを低減することが可能な赤外線吸収粒子を提供する。 【解決手段】本発明の赤外線吸収粒子は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１種のＡサイト元素と、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆからなる群より選ばれる少なくとも１種のＢサイト元素とを含有し、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｖ、ＮｂおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素Ｄがドープされたペロブスカイト型酸化物微粒子からなる。ペロブスカイト型酸化物微粒子は波長１．０μｍにおける赤外線の拡散反射率が５０％以下で、波長２．０μｍにおける赤外線の拡散反射率が２５％以下である。 【選択図】なし

  2. ケイ酸化合物、二次電池用正極および二次電池の製造方法

    【課題】二次電池の正極活物質等として用いた場合に、平均放電電圧および単位質量当たりの容量を高めることが可能なケイ酸化合物を安価に製造できる製造方法を提供する。 【解決手段】ＡaＭbＳｉc-(d+e)ＧｅdＸeＯf1（ＡはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、ＭはＦｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＸはＰ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｖ、０．８＜ａ≦２．７、０．６≦ｂ≦１．４、０．８≦ｃ≦１．１、０．０１≦ｄ≦０．８、０≦ｅ≦０．１、ｆ１はａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、Ｍの価数、Ｘの価数に依存し、電気的中性を満たす数）で表される組成を有する溶融物を冷却して得た固化物の粉砕物を加熱して、ＡaＭbＳｉc-(d+e)ＧｅdＸeＯf（ｆはａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、Ｍの価数、Ｘの価数に依存し、電気的中性を満たす数）で表される組成を有するケイ酸化合物を製造する。 【選択図】図７

  3. 二次電池用正極活物質、二次電池用正極、および二次電池の製造方法

    【課題】電気伝導性および安全性を高めると共に、組成や粒径を良好に制御できる二次電池用正極活物質の製造方法を提供する。 【解決手段】ＡaＭbＸcＯd1Ｚe1（ＡはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、ＭはＦｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＸはＳｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｓ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｚはハロゲン、０．８≦ａ≦２．７、０．６≦ｂ≦１．４、０．９≦ｃ≦１．１、ｄ１はａ、ｂ、ｃ、ｅ１、Ｍの価数、Ｘの価数に依存する数、ｅ１≦ａ、０≦ｅ１≦２．２）組成を有する溶融物を冷却して固化物を得る。固化物を粉砕した後に不活性ガス中または還元ガス中で加熱し、ＡaＭbＸcＯdＺe組成を有する化合物の表面の少なくとも一部が導電材で被覆された被覆粒子を得る。被覆粒子と溶媒と、該溶媒に分散または溶解した含フッ素ポリマーとを混合した後、溶媒を除去し、次に加熱して二次電池用正極活物質を得る。 【選択図】図１

  4. 研磨スラリー、その製造方法、研磨方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法

    セリア結晶微粒子またはセリア−ジルコニア固溶体結晶微粒子を用いる場合であってもガラス基板主表面を高速で研磨できる研磨スラリーの製造方法の提供。 セリア粒子またはセリア−ジルコニア固溶体粒子からなる砥粒と２−ピリジンカルボン酸またはグルタミン酸からなる分散剤と水とを含有する研磨スラリー原液を作製し、当該研磨スラリー原液の砥粒をその結晶子径の減少割合が１０％以下となるように分散し、その後、水を加え、また前記分散剤と同じものを添加することを特徴とするｐＨが２〜７である研磨スラリーの製造方法。

  5. データ出力制御装置、データ出力制御方法

    【課題】複数件のデータから特定のデータを簡単に選択する。 【解決手段】出力する複数のデータと、複数のデータのそれぞれに関連する値とを対応付けて記憶し、複数のデータに対応付けられた値の範囲から特定の値の選択を受付けるスライダーバーを表示部に表示させ、表示部に表示されたスライダーバーにより選択される値の入力を受付け、入力部によって入力された値に対応するデータを読出して出力部に出力させる。 【選択図】図１

  6. 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法

    【課題】酸化セリウムの粒子径を大粒径化することなく研磨レートの向上、ひいては生産性の向上を実現する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 【解決手段】研磨スラリーを研磨布と円形ガラス板の間に供給し、研磨布により円形ガラス板の主表面を研磨する研磨工程と、該研磨スラリーが当該研磨工程で使用された研磨スラリーを含むようにするスラリー循環工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、該研磨スラリーが、メディアン径が０．３〜３μｍである酸化セリウム粒子とアセチレン系界面活性剤とを含有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 【選択図】なし

  7. 磁気ディスク用ガラス基板、その製造方法および磁気ディスク

    【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。 【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性有機高分子および平均粒径が０．４〜１．８μｍの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 【選択図】なし

  8. 酸化物結晶微粒子の製造方法

    結晶性が高く、組成及び粒子径の均一性に優れ、粒子径の小さい酸化物結晶微粒子の製造方法、及び当該微粒子の提供。 Ｍの酸化物（ＭはＣｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、及び希土類元素（Ｃｅを除く）からなる群より選ばれる１種以上）と、Ｂ２Ｏ３とを含む溶融物を得る工程と、前記溶融物を急速冷却して非晶質物質とする工程と、前記非晶質物質を粉砕して、体積基準粒度分布が０．１〜４０μｍの範囲の粉砕物を得る工程と、前記粉砕物を加熱して、粉砕物粒子中に前記Ｍを含む酸化物結晶を析出させる工程と、前記結晶析出粒子中から前記Ｍを含む酸化物結晶以外の成分を分離してＭを含む酸化物の結晶微粒子を得る工程と、をこの順に含むことを特徴とする、酸化物結晶微粒子の製造方法。

  9. ガラス基板用研磨液及びその製造方法、並びに前記研磨液を用いたガラス基板の研磨方法及び前記研磨方法により得られたガラス基板

    【課題】磁気ディスク等のガラス基板の研磨において、高速研磨と基板表面の高平坦性とを両立させる。 【解決手段】平均粒子径が１０〜５０ｎｍで表面に突起を持つ凹凸状コロイダルシリカ粒子が連結してなり、かつ、動的光散乱法によるメディアン径（Ｄ１）が３０〜１５０ｎｍで、透過型電子顕微鏡により測定した平均粒子径（Ｄ２）との比（Ｄ１／Ｄ２）が２〜５であるコロイダルシリカ粒子凝集体が水中に分散しているガラス基板用研磨液。 【選択図】図１

  10. 酸化物結晶微粒子及び該微粒子を含む研磨用スラリー

    研磨能力に優れ、被研磨面上のスクラッチの発生を低減でき、半導体デバイス製造工程における精密研磨に好適な研磨用スラリー及びそのための酸化物結晶微粒子の提供。 Ｘ線回折測定により、シェラー法を使用して算出した結晶子径と、ＢＥＴ法による比表面積測定から、真球近似をして算出した平均一次粒径との比率が、結晶子径：平均一次粒径＝１：０．８〜１：２．５を有する酸化物結晶微粒子。更に、該酸化物結晶微粒子を研磨用スラリー全質量中０．１〜４０質量％含むように液状媒体中に分散してなる研磨用スラリー。

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