The process according to Claim 1, wherein the gas comprises nitrogen gas.
該ガスが窒素ガスを含む、請求項１に記載の方法。
The mixture was placed in a container and stirred while nitrogen gas was bubbled through the mixture to substantially exclude oxygen (i.e., to a level where polymerization was no longer inhibited, i.e., about 1,000 parts per million (ppm) or less).
容器中に混合物を入れ、酸素が実質的に除去されるまで（即ち、もはや重合が抑制を受けないレベルまで、具体的には、約１，０００部／１０００，０００（ｐｐｍ）以下のレベルまで）、窒素ガスを混合物中にバブルしながら攪拌した。
The bottle was then made inert with nitrogen gas and sealed.
次に、ボトルを窒素ガスで不活性状態にしてからシールした。
In a preferred procedure, to a reactor equipped with stirrer, heater and a dry nitrogen gas purge, polyisocyanate is added together with solvent.
好ましい方法において、攪拌機、ヒーター及び乾燥窒素ガスパージを備えた反応器に、ポリイソシアネートが溶剤と共に充填される。
HFPO-AE-OH (600 g) was combined with ethyl acetate (600 g) and triethylamine (57.9 g) in a 3-neck round bottom flask that was fitted with a mechanical stirrer, a reflux condenser, addition funnel, and a hose adapter that was connected to a source of nitrogen gas.
機械撹拌機、還流冷却器、添加漏斗、又は窒素ガス源に接続されたホースアダプターを備えた３首丸底フラスコ内でＨＦＰＯ−ＡＥ−ＯＨ（６００ｇ）に酢酸エチル（６００ｇ）又はトリエチルアミン（５７．９ｇ）を配合した。
Any excess acid was blown off with nitrogen gas.
任意の過剰な酸は、窒素ガスで吹き飛ばした。
As a means to make oxygen concentration 10 vol % or less, it is preferred to replace the atmosphere (nitrogen concentration: about 79 vol % and oxygen concentration: about 21 vol %) with another gas, and a particularly preferred means is to replace the atmosphere with nitrogen gas (nitrogen purge).
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
The resulting suspension was stirred for 4 hours under the flow of nitrogen gas.
得られた懸濁液を、４時間、窒素ガス流下で撹拌した。
(Layer 2) The plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 378 volts, 3.09 amps and a nitrogen gas flow of 70 sccm.
（層２）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３７８ボルト、３．０９アンペア、及び窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。
(Layer 1) The support plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 322 volts, 3.15 amps and a nitrogen gas flow of 70 sccm.
（層１）支持体のプラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２２ボルト、３．１５アンペア、及び窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。
(Layer 4) The plasma pretreatment was at 316 volts and 3.22 amps, and the nitrogen gas flow rate was 90 sccm.
（層４）プラズマ前処理は、３１６ボルト及び３．２２アンペアで行ない、窒素ガスの流速は９０ｓｃｃｍであった。
(Layer 2) The plasma pretreatment was at 1000 watts power (309 volts and 3.34 amps) and a nitrogen gas flow of 90 sccm.
（層２）プラズマ前処理は、１０００ワット電力（３０９ボルト及び３．３４アンペア）及び９０ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。
Each of the spray nozzles 7 is composed of a pipe made of Teflon PFA, and includes, though not shown, a plurality of spray ports for spraying chemical and ultrapure water and a plurality of nitrogen gas blow-out ports for atomizing the chemical and ultrapure water, both of which are provided at almost regular intervals in a direction that the respective spray nozzles 7 extend (direction across at a right angle to paper in the drawing).
前記スプレーノズル７は、テフロンＰＦＡ製のパイプからなる。またスプレーノズル７は、図示していないが、薬液及び超純水の噴出口と、該薬液及び超純水を噴霧状にするためのアトマイズ用の窒素ガス噴出口とを有し、これらの噴出口がそれぞれスプレーノズル７の延設方向（図で紙面と直交する方向）に等間隔で複数個設けられている。
A chemical/ultrapure water supply line 16 is connected to the spray ports of the chemical and ultrapure water, and a nitrogen gas supply line 17 is connected to the nitrogen gas blow-out ports.
薬液及び超純水の噴出口には薬液超純水供給ライン１６が、窒素ガス噴出口には窒素ガス供給ライン１７がそれぞれ接続されている。
The nitrogen gas supply line 17 includes an inline heater filter block 41 for heating and filtering nitrogen gas, and is capable of heating it up to 300 DEG C.
前記窒素ガス供給ライン１７は、窒素ガスを加熱、濾過するためのインラインヒーターフィルタブロック４１を有しており、該ブロック４１では窒素ガスを３００℃まで加熱することができる。
The nitrogen gas supply line 17 communicates with each spray nozzle 7 via gas switch valves 42, 43, 44 provided at the downstream side of the inline heater filter block 41 so that nitrogen gas heated and filtered by the inline heater filter block 41 is blown out from the nitrogen gas blow-out ports for atomization of each spray nozzle 7 into the process chamber 1.
窒素ガス供給ライン１７は、前記インラインヒーターフィルタブロック４１の下流側に設けられたガス開閉バルブ４２，４３，４４を介して各スプレーノズル７に連通されていて、ブロック４１で加熱、濾過した窒素ガスを各スプレーノズル７のアトマイズ用窒素ガス噴出口からプロセスチャンバー１内へ噴出させるようになっている。
The blow-out amount and pressure of nitrogen gas to be blown out are adjusted according to the sprayed amount of the chemical from the spray nozzles 7 to atomize the chemical.
噴出する窒素ガスは、その噴出流量と圧力とがスプレーノズル７からの薬液の噴出量に応じて調整され、薬液を霧化する。
It is possible to set the spray nozzles 7 to blow out only the nitrogen gas for purging or drying the inside of the process chamber 1.
スプレーノズル７から窒素ガスのみを噴出させて、チャンバー１内のパージ、乾燥を行うことが可能である。
The nitrogen gas in the process chamber 1 is discharged from a discharge port provided at the upper part of the process chamber 1 through a nitrogen gas discharge line 45 provided with a discharge valve 46 and a pressure self-adjusting valve 47 for adjusting pressure in the process chamber 1.
前記プロセスチャンバー１内の窒素ガスは、プロセスチャンバー１上部に設けられた排気口から窒素ガス排気ライン４５を通して排気されるようになっており、該排気ライン４５には排気バルブ４６とチャンバー１内の圧力を調整するための自動圧力調整バルブ４７とが設けられている。
The nitrogen gas supply line 17 is connected to a gas line 48 for supplying through the spray nozzles 7 to the process chamber 1 each gas other than the nitrogen gas such as ozone gas, anhydrous hydrogen fluoride gas, HFAC (1,1,1,5,5,5,-hexafluoro-2,4-pentanedione) gas.
前記窒素ガス供給ライン１７には、窒素ガスとは別のオゾンガス、無水ふっ化水素ガス、ＨＦＡＣ（１，１，１，５，５，５，−ヘキサフロロ−２，４−ペンタネディオン）ガス等のガスを、窒素ガス供給ライン１７及びスプレーノズル７を通してプロセスチャンバー１内に送給するガスライン４８が接続されている。
At step S1, 60 liters of nitrogen gas are heated at 80 DEG C. by the inline heater filter block 41 is sprayed from the spray nozzles 7 for 1 minute to nitrogen-purge the inside of the process chamber.
スプレーノズル７よりインラインヒーターフィルタブロック４１に８０℃に加熱された窒素ガスを毎分６０リッターで噴出し、１分間チャンバ１内部を窒素パージする（工程Ｓ1）。
Thereafter, flow amount of the nitrogen gas is set to 20 liters per minute, maintaining the pressure in the process chamber 1.
この後、チャンバ１内圧力を保持したまま窒素ガスの流量を毎分２０リッターとする。
At this time, hot nitrogen gas at 80 DEG C. is already blown out from the spray nozzles 7, therefore the chemical is atomized by the nitrogen gas for atomization so as to spray and clean the wafer 5 (step S3).
このとき既にスプレーノズル７からは８０℃の高温窒素ガスが噴出しており、このアトマイズ用窒素ガスにより薬液は噴霧状になり、ウェーハ５をスプレー洗浄する（工程Ｓ3 ）。
During this time, though the temperature of the chemical is lowered by about 10 DEG C. by generation of heat of gasification at atomization, the chemical in mist state is kept at 70 DEG C. by the heat of the nitrogen gas for atomization and by the chamber heaters 3.
このとき、アトマイズにより薬液の温度は約１０℃低下するが、アトマイズ用窒素ガスの温度とチャンバーヒーター３により噴霧薬液の温度は７０℃に保持される。
(Layer 1) The support plasma pretreatment was as before but at 1000 watts power (402 volts and 2.5 amps) and a nitrogen gas flow of 102 sccm.
（層１）支持体のプラズマ前処理は上記のとおりであるが、１０００ワット電力（４０２ボルト及び２．５アンペア）及び１０２ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。
The plasma pretreatment utilized a chrome target and an unbalanced dc magnetron operated at 1500 watts power (429 volts and 3.5 amps) under a nitrogen atmosphere with a nitrogen gas flow of 70 sccm.
プラズマ前処理は、７０ｓｃｃｍの窒素ガス流の窒素雰囲気下で、クロムターゲットと、１５００ワット電力（４２９ボルト及び３．５アンペア）で動作される非平衡ｄｃマグネトロンとを用いた。
Nitrogen gas was introduced into the furnace to purge residual gases.
窒素ガスを炉に導入して、残留ガスをパージした。
the system was then filled with nitrogen gas to atmospheric pressure and the coated substrate was removed.
システムへ大気圧まで窒素ガスを充填し、コーティング基材を取り外した。
and then nitrogen gas was introduced to provide any operating pressure of about 0.27 Pa (2 milliTorr) - 0.39 Pa (3 milliTorr).
次に窒素ガスを導入して、約０．２７Ｐａ（２ミリトール）〜０．３９Ｐａ（３ミリトール）の任意の動作圧力を提供した。
(Layer 4) The plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 328 volts, 3.07 amps and a nitrogen gas flow rate of 70 sccm.
（層４）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２８ボルト、３．０７アンペア、及び窒素ガス流速７０ｓｃｃｍを用いた。
It also determines usable oil volume of an accumulator when its size is known, and the effects of temperature change on nitrogen gas pressure.
そのプログラムによって、アキュムレータのサイズがわかれば使用可能な油の量も決まり、そして窒素ガスの圧力に対する温度変化の影響も決まる。
The physical vapor deposition was performed in a processing environment containing nitrogen gas, with a pulsed cathodic arc plasma generating system described in Selifanov et al., U.S. Patent Nos. 5,643,343 and 5,711,773.
物理蒸着は、米国特許第５，６４３，３４３号及び米国特許第５，７１１，７７３号（セリファノヴ（Selifanov）ら）に記載されているパルス式カソードアークプラズマ発生装置にて、窒素ガスを含有する処理環境内で実施した。
In an embodiment of the present invention, the gas contains nitrogen gas.
本発明のある実施形態では、ガスは窒素ガスを含む。
Purge the reactor with 349.35 kPa (50 psig) nitrogen gas and then heat the distillate composition and iron carbonyl to 180 °C for one hour with agitation.
反応容器を３４９．３５ｋＰａ（５０ｐｓｉｇ）の窒素ガスでパージし、次に留出物組成物及び鉄カルボニルを１８０℃で１時間、攪拌しながら加熱する。
Purge the reactor ten times with 349.35 kPa (50 psig) nitrogen gas, then purge twice with 3493.5 kPa (500 psig) synthetic gas (syngas).
反応容器を、３４９．３５ｋＰａ（５０ｐｓｉｇ）窒素ガスにて１０回パージし、次に３４９３．５ｋＰａ（５００ｐｓｉｇ）合成ガス（シンガス）にて２回パージする。
Pressurize the reactor to 139.74 kPa (20 psig) with nitrogen gas, then heat the reactor to 180 °C for one hour to allow double bond isomerization to take place.
反応容器を窒素ガスで１３９．７４ｋＰａ（２０ｐｓｉｇ）まで加圧し、次に反応容器を１８０℃で１時間加熱し、二重結合を異性化させる。
Purge the autoclave twice with 1724.25 kPa (250 psig) nitrogen gas, and then charged to 413.82 kPa (60 psig) nitrogen gas.
該オートクレーブを、１７２４．２５ｋＰａ（２５０ｐｓｉｇ）の窒素ガスで２回パージし、次に４１３．８２ｋＰａ（６０ｐｓｉｇ）の窒素ガスで充填する。
The reactor may then be vented and flushed with nitrogen gas.
次に反応容器を通気し、窒素ガスを流すことができる。
At that time, the reactor was vented and flushed with nitrogen gas.
その時点で、反応容器を通気し、窒素ガスを流した。
For example, the fluoropolymer latex may be subjected to a fluorine and nitrogen gas mixture,
例えば、前記フルオロポリマー・ラテックスをフッ素ガス及び窒素ガスの混合物にさらしてもよく、
At that time, the kettle was vented and flushed with nitrogen gas.
その時点で、前記ケトルを通気し、窒素ガスでフラッシュした。
In order to avoid premature curing of the resulting curable composition, the mixing should be done under anhydrous conditions, preferably in a substantially inert atmosphere, e.g., nitrogen gas.
得られる硬化性組成物の硬化が早すぎるのを避けるために、この混合は無水の条件下で行う必要があり、好ましくは、例えば、窒素ガス中など実質的な不活性な環境で行われるべきである。
The composition was degassed using a bubbling nitrogen gas stream for several minutes.
数分間の窒素ガス流のバブリングを使用して、組成物を脱気させた。
The filtrate was concentrated, diethyl ether was added and the precipitate was isolated by filtration and dried under a stream of nitrogen gas to give the desired product.
前記ろ液を濾過し、ジエチルエーテルを添加し、沈殿物を濾過によって分離し、窒素流下で乾燥させて所望の生成物を得た。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with 22.52 grams of a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil.
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油中のＮａＨの６０重量％分散体２２．５２グラムを充填した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with 16.22 grams of a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil.
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油中のＮａＨの６０重量％分散体１６．２２グラムを充填した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a magnetic stir bar, reflux condenser, digital temperature probe, rubber septum, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with a mixture of the carboxylic acid product of Preparative Example 9 and acetonitrile (20 grams).
電磁攪拌棒、還流凝縮器、デジタル式温度プローブ、ゴム隔膜、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、調製例９のカルボン酸生成物及びアセトニトリル（２０グラム）の混合物を充填した。
The mixture was then filtered and the solid was dried under a stream of nitrogen gas to afford the product.
次に、前記混合物を濾過し、固形物を窒素流下で乾燥させて生成物を得た。
To a 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was added sulfanilamide (20 grams), pyridine (11.02 grams) and THF (59 grams).
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、スルファニルアミド（２０グラム）、ピリジン（１１．０２グラム）及びＴＨＦ（５９グラム）を添加した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a magnetic stir bar, an addition funnel and a hose adapter that was connected to a source of nitrogen gas, was charged with a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil (9.45 g) and hexane (20 mL).
電磁攪拌棒、添加漏斗及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油（９．４５ｇ）及びヘキサン（２０ｍＬ）中の６０重量％ＮａＨ分散体を充填した。
was purged with nitrogen gas for approximately 15 minutes
を約１５分間窒素ガスでパージし、
was purged with nitrogen gas for 10 minutes.
を１０分間窒素ガスでパージした。
The solid was washed with diethyl ether and was dried under a flow of nitrogen gas to afford 2.9 grams of product.
前記固体をジエチルエーテルで洗浄し、窒素ガス流下にて乾燥し、２．９グラムの生成物を得た。
The mold may be purged for about two minutes with the pressurized nitrogen gas supply at a flow rate of about 1133 L (40 cubic ft) of the pressurized nitrogen gas.
鋳型は、約１１３３Ｌ（４０立方フィート）の加圧窒素ガスの流量で、加圧窒素ガス供給により、約２分間浄化されてよい。
化学のドレミファ〈1〉反応式がわかるまで
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化学のドレミファ〈2〉イオンのことがわかるまで
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化学のドレミファ〈4〉化学反応はどうしておこるか
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該ガスが窒素ガスを含む、請求項１に記載の方法。
The mixture was placed in a container and stirred while nitrogen gas was bubbled through the mixture to substantially exclude oxygen (i.e., to a level where polymerization was no longer inhibited, i.e., about 1,000 parts per million (ppm) or less).
容器中に混合物を入れ、酸素が実質的に除去されるまで（即ち、もはや重合が抑制を受けないレベルまで、具体的には、約１，０００部／１０００，０００（ｐｐｍ）以下のレベルまで）、窒素ガスを混合物中にバブルしながら攪拌した。
The bottle was then made inert with nitrogen gas and sealed.
次に、ボトルを窒素ガスで不活性状態にしてからシールした。
In a preferred procedure, to a reactor equipped with stirrer, heater and a dry nitrogen gas purge, polyisocyanate is added together with solvent.
好ましい方法において、攪拌機、ヒーター及び乾燥窒素ガスパージを備えた反応器に、ポリイソシアネートが溶剤と共に充填される。
HFPO-AE-OH (600 g) was combined with ethyl acetate (600 g) and triethylamine (57.9 g) in a 3-neck round bottom flask that was fitted with a mechanical stirrer, a reflux condenser, addition funnel, and a hose adapter that was connected to a source of nitrogen gas.
機械撹拌機、還流冷却器、添加漏斗、又は窒素ガス源に接続されたホースアダプターを備えた３首丸底フラスコ内でＨＦＰＯ−ＡＥ−ＯＨ（６００ｇ）に酢酸エチル（６００ｇ）又はトリエチルアミン（５７．９ｇ）を配合した。
Any excess acid was blown off with nitrogen gas.
任意の過剰な酸は、窒素ガスで吹き飛ばした。
As a means to make oxygen concentration 10 vol % or less, it is preferred to replace the atmosphere (nitrogen concentration: about 79 vol % and oxygen concentration: about 21 vol %) with another gas, and a particularly preferred means is to replace the atmosphere with nitrogen gas (nitrogen purge).
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
The resulting suspension was stirred for 4 hours under the flow of nitrogen gas.
得られた懸濁液を、４時間、窒素ガス流下で撹拌した。
(Layer 2) The plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 378 volts, 3.09 amps and a nitrogen gas flow of 70 sccm.
（層２）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３７８ボルト、３．０９アンペア、及び窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。
(Layer 1) The support plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 322 volts, 3.15 amps and a nitrogen gas flow of 70 sccm.
（層１）支持体のプラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２２ボルト、３．１５アンペア、及び窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。
(Layer 4) The plasma pretreatment was at 316 volts and 3.22 amps, and the nitrogen gas flow rate was 90 sccm.
（層４）プラズマ前処理は、３１６ボルト及び３．２２アンペアで行ない、窒素ガスの流速は９０ｓｃｃｍであった。
(Layer 2) The plasma pretreatment was at 1000 watts power (309 volts and 3.34 amps) and a nitrogen gas flow of 90 sccm.
（層２）プラズマ前処理は、１０００ワット電力（３０９ボルト及び３．３４アンペア）及び９０ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。
Each of the spray nozzles 7 is composed of a pipe made of Teflon PFA, and includes, though not shown, a plurality of spray ports for spraying chemical and ultrapure water and a plurality of nitrogen gas blow-out ports for atomizing the chemical and ultrapure water, both of which are provided at almost regular intervals in a direction that the respective spray nozzles 7 extend (direction across at a right angle to paper in the drawing).
前記スプレーノズル７は、テフロンＰＦＡ製のパイプからなる。またスプレーノズル７は、図示していないが、薬液及び超純水の噴出口と、該薬液及び超純水を噴霧状にするためのアトマイズ用の窒素ガス噴出口とを有し、これらの噴出口がそれぞれスプレーノズル７の延設方向（図で紙面と直交する方向）に等間隔で複数個設けられている。
A chemical/ultrapure water supply line 16 is connected to the spray ports of the chemical and ultrapure water, and a nitrogen gas supply line 17 is connected to the nitrogen gas blow-out ports.
薬液及び超純水の噴出口には薬液超純水供給ライン１６が、窒素ガス噴出口には窒素ガス供給ライン１７がそれぞれ接続されている。
The nitrogen gas supply line 17 includes an inline heater filter block 41 for heating and filtering nitrogen gas, and is capable of heating it up to 300 DEG C.
前記窒素ガス供給ライン１７は、窒素ガスを加熱、濾過するためのインラインヒーターフィルタブロック４１を有しており、該ブロック４１では窒素ガスを３００℃まで加熱することができる。
The nitrogen gas supply line 17 communicates with each spray nozzle 7 via gas switch valves 42, 43, 44 provided at the downstream side of the inline heater filter block 41 so that nitrogen gas heated and filtered by the inline heater filter block 41 is blown out from the nitrogen gas blow-out ports for atomization of each spray nozzle 7 into the process chamber 1.
窒素ガス供給ライン１７は、前記インラインヒーターフィルタブロック４１の下流側に設けられたガス開閉バルブ４２，４３，４４を介して各スプレーノズル７に連通されていて、ブロック４１で加熱、濾過した窒素ガスを各スプレーノズル７のアトマイズ用窒素ガス噴出口からプロセスチャンバー１内へ噴出させるようになっている。
The blow-out amount and pressure of nitrogen gas to be blown out are adjusted according to the sprayed amount of the chemical from the spray nozzles 7 to atomize the chemical.
噴出する窒素ガスは、その噴出流量と圧力とがスプレーノズル７からの薬液の噴出量に応じて調整され、薬液を霧化する。
It is possible to set the spray nozzles 7 to blow out only the nitrogen gas for purging or drying the inside of the process chamber 1.
スプレーノズル７から窒素ガスのみを噴出させて、チャンバー１内のパージ、乾燥を行うことが可能である。
The nitrogen gas in the process chamber 1 is discharged from a discharge port provided at the upper part of the process chamber 1 through a nitrogen gas discharge line 45 provided with a discharge valve 46 and a pressure self-adjusting valve 47 for adjusting pressure in the process chamber 1.
前記プロセスチャンバー１内の窒素ガスは、プロセスチャンバー１上部に設けられた排気口から窒素ガス排気ライン４５を通して排気されるようになっており、該排気ライン４５には排気バルブ４６とチャンバー１内の圧力を調整するための自動圧力調整バルブ４７とが設けられている。
The nitrogen gas supply line 17 is connected to a gas line 48 for supplying through the spray nozzles 7 to the process chamber 1 each gas other than the nitrogen gas such as ozone gas, anhydrous hydrogen fluoride gas, HFAC (1,1,1,5,5,5,-hexafluoro-2,4-pentanedione) gas.
前記窒素ガス供給ライン１７には、窒素ガスとは別のオゾンガス、無水ふっ化水素ガス、ＨＦＡＣ（１，１，１，５，５，５，−ヘキサフロロ−２，４−ペンタネディオン）ガス等のガスを、窒素ガス供給ライン１７及びスプレーノズル７を通してプロセスチャンバー１内に送給するガスライン４８が接続されている。
At step S1, 60 liters of nitrogen gas are heated at 80 DEG C. by the inline heater filter block 41 is sprayed from the spray nozzles 7 for 1 minute to nitrogen-purge the inside of the process chamber.
スプレーノズル７よりインラインヒーターフィルタブロック４１に８０℃に加熱された窒素ガスを毎分６０リッターで噴出し、１分間チャンバ１内部を窒素パージする（工程Ｓ1）。
Thereafter, flow amount of the nitrogen gas is set to 20 liters per minute, maintaining the pressure in the process chamber 1.
この後、チャンバ１内圧力を保持したまま窒素ガスの流量を毎分２０リッターとする。
At this time, hot nitrogen gas at 80 DEG C. is already blown out from the spray nozzles 7, therefore the chemical is atomized by the nitrogen gas for atomization so as to spray and clean the wafer 5 (step S3).
このとき既にスプレーノズル７からは８０℃の高温窒素ガスが噴出しており、このアトマイズ用窒素ガスにより薬液は噴霧状になり、ウェーハ５をスプレー洗浄する（工程Ｓ3 ）。
During this time, though the temperature of the chemical is lowered by about 10 DEG C. by generation of heat of gasification at atomization, the chemical in mist state is kept at 70 DEG C. by the heat of the nitrogen gas for atomization and by the chamber heaters 3.
このとき、アトマイズにより薬液の温度は約１０℃低下するが、アトマイズ用窒素ガスの温度とチャンバーヒーター３により噴霧薬液の温度は７０℃に保持される。
(Layer 1) The support plasma pretreatment was as before but at 1000 watts power (402 volts and 2.5 amps) and a nitrogen gas flow of 102 sccm.
（層１）支持体のプラズマ前処理は上記のとおりであるが、１０００ワット電力（４０２ボルト及び２．５アンペア）及び１０２ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。
The plasma pretreatment utilized a chrome target and an unbalanced dc magnetron operated at 1500 watts power (429 volts and 3.5 amps) under a nitrogen atmosphere with a nitrogen gas flow of 70 sccm.
プラズマ前処理は、７０ｓｃｃｍの窒素ガス流の窒素雰囲気下で、クロムターゲットと、１５００ワット電力（４２９ボルト及び３．５アンペア）で動作される非平衡ｄｃマグネトロンとを用いた。
Nitrogen gas was introduced into the furnace to purge residual gases.
窒素ガスを炉に導入して、残留ガスをパージした。
the system was then filled with nitrogen gas to atmospheric pressure and the coated substrate was removed.
システムへ大気圧まで窒素ガスを充填し、コーティング基材を取り外した。
and then nitrogen gas was introduced to provide any operating pressure of about 0.27 Pa (2 milliTorr) - 0.39 Pa (3 milliTorr).
次に窒素ガスを導入して、約０．２７Ｐａ（２ミリトール）〜０．３９Ｐａ（３ミリトール）の任意の動作圧力を提供した。
(Layer 4) The plasma pretreatment was at 1000 watts power but using 328 volts, 3.07 amps and a nitrogen gas flow rate of 70 sccm.
（層４）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２８ボルト、３．０７アンペア、及び窒素ガス流速７０ｓｃｃｍを用いた。
It also determines usable oil volume of an accumulator when its size is known, and the effects of temperature change on nitrogen gas pressure.
そのプログラムによって、アキュムレータのサイズがわかれば使用可能な油の量も決まり、そして窒素ガスの圧力に対する温度変化の影響も決まる。
The physical vapor deposition was performed in a processing environment containing nitrogen gas, with a pulsed cathodic arc plasma generating system described in Selifanov et al., U.S. Patent Nos. 5,643,343 and 5,711,773.
物理蒸着は、米国特許第５，６４３，３４３号及び米国特許第５，７１１，７７３号（セリファノヴ（Selifanov）ら）に記載されているパルス式カソードアークプラズマ発生装置にて、窒素ガスを含有する処理環境内で実施した。
In an embodiment of the present invention, the gas contains nitrogen gas.
本発明のある実施形態では、ガスは窒素ガスを含む。
Purge the reactor with 349.35 kPa (50 psig) nitrogen gas and then heat the distillate composition and iron carbonyl to 180 °C for one hour with agitation.
反応容器を３４９．３５ｋＰａ（５０ｐｓｉｇ）の窒素ガスでパージし、次に留出物組成物及び鉄カルボニルを１８０℃で１時間、攪拌しながら加熱する。
Purge the reactor ten times with 349.35 kPa (50 psig) nitrogen gas, then purge twice with 3493.5 kPa (500 psig) synthetic gas (syngas).
反応容器を、３４９．３５ｋＰａ（５０ｐｓｉｇ）窒素ガスにて１０回パージし、次に３４９３．５ｋＰａ（５００ｐｓｉｇ）合成ガス（シンガス）にて２回パージする。
Pressurize the reactor to 139.74 kPa (20 psig) with nitrogen gas, then heat the reactor to 180 °C for one hour to allow double bond isomerization to take place.
反応容器を窒素ガスで１３９．７４ｋＰａ（２０ｐｓｉｇ）まで加圧し、次に反応容器を１８０℃で１時間加熱し、二重結合を異性化させる。
Purge the autoclave twice with 1724.25 kPa (250 psig) nitrogen gas, and then charged to 413.82 kPa (60 psig) nitrogen gas.
該オートクレーブを、１７２４．２５ｋＰａ（２５０ｐｓｉｇ）の窒素ガスで２回パージし、次に４１３．８２ｋＰａ（６０ｐｓｉｇ）の窒素ガスで充填する。
The reactor may then be vented and flushed with nitrogen gas.
次に反応容器を通気し、窒素ガスを流すことができる。
At that time, the reactor was vented and flushed with nitrogen gas.
その時点で、反応容器を通気し、窒素ガスを流した。
For example, the fluoropolymer latex may be subjected to a fluorine and nitrogen gas mixture,
例えば、前記フルオロポリマー・ラテックスをフッ素ガス及び窒素ガスの混合物にさらしてもよく、
At that time, the kettle was vented and flushed with nitrogen gas.
その時点で、前記ケトルを通気し、窒素ガスでフラッシュした。
In order to avoid premature curing of the resulting curable composition, the mixing should be done under anhydrous conditions, preferably in a substantially inert atmosphere, e.g., nitrogen gas.
得られる硬化性組成物の硬化が早すぎるのを避けるために、この混合は無水の条件下で行う必要があり、好ましくは、例えば、窒素ガス中など実質的な不活性な環境で行われるべきである。
The composition was degassed using a bubbling nitrogen gas stream for several minutes.
数分間の窒素ガス流のバブリングを使用して、組成物を脱気させた。
The filtrate was concentrated, diethyl ether was added and the precipitate was isolated by filtration and dried under a stream of nitrogen gas to give the desired product.
前記ろ液を濾過し、ジエチルエーテルを添加し、沈殿物を濾過によって分離し、窒素流下で乾燥させて所望の生成物を得た。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with 22.52 grams of a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil.
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油中のＮａＨの６０重量％分散体２２．５２グラムを充填した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with 16.22 grams of a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil.
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油中のＮａＨの６０重量％分散体１６．２２グラムを充填した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a magnetic stir bar, reflux condenser, digital temperature probe, rubber septum, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was charged with a mixture of the carboxylic acid product of Preparative Example 9 and acetonitrile (20 grams).
電磁攪拌棒、還流凝縮器、デジタル式温度プローブ、ゴム隔膜、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、調製例９のカルボン酸生成物及びアセトニトリル（２０グラム）の混合物を充填した。
The mixture was then filtered and the solid was dried under a stream of nitrogen gas to afford the product.
次に、前記混合物を濾過し、固形物を窒素流下で乾燥させて生成物を得た。
To a 3-neck round bottom flask, fitted with a reflux condenser, a thermometer, a pressure-equalizing addition funnel, a magnetic stir bar, and a hose adapter connected to a source of nitrogen gas, was added sulfanilamide (20 grams), pyridine (11.02 grams) and THF (59 grams).
還流凝縮器、温度計、圧力平衡添加漏斗、電磁攪拌棒、及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、スルファニルアミド（２０グラム）、ピリジン（１１．０２グラム）及びＴＨＦ（５９グラム）を添加した。
A 3-neck round bottom flask, fitted with a magnetic stir bar, an addition funnel and a hose adapter that was connected to a source of nitrogen gas, was charged with a 60 weight percent dispersion of NaH in mineral oil (9.45 g) and hexane (20 mL).
電磁攪拌棒、添加漏斗及び窒素ガス供給源に接続されているホースアダプタを装着した三つ口丸底フラスコに、鉱油（９．４５ｇ）及びヘキサン（２０ｍＬ）中の６０重量％ＮａＨ分散体を充填した。
was purged with nitrogen gas for approximately 15 minutes
を約１５分間窒素ガスでパージし、
was purged with nitrogen gas for 10 minutes.
を１０分間窒素ガスでパージした。
The solid was washed with diethyl ether and was dried under a flow of nitrogen gas to afford 2.9 grams of product.
前記固体をジエチルエーテルで洗浄し、窒素ガス流下にて乾燥し、２．９グラムの生成物を得た。
The mold may be purged for about two minutes with the pressurized nitrogen gas supply at a flow rate of about 1133 L (40 cubic ft) of the pressurized nitrogen gas.
鋳型は、約１１３３Ｌ（４０立方フィート）の加圧窒素ガスの流量で、加圧窒素ガス供給により、約２分間浄化されてよい。
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