回路描く光の微細化に成功　半導体も容量１０倍に？

　半導体を使った電子部品の小型化に向け、研究を進めていた宇都宮大（宇都宮市）や長岡技術科学大（新潟県長岡市）などのグループが、半導体に回路を描く光の微細化に成功した。波長が従来の３０分の１で、より小さな回路を描くことができる。

　グループの東口武史・宇都宮大准教授は「実用化すれば同じサイズの電子部品でも容量が１０倍以上になる。スマートフォン（多機能携帯電話）でＤＶＤが見られるほど性能が上がり、コストダウンにもつながる」としている。

　研究論文は米専門誌に掲載され、英専門誌「ネイチャーフォトニクス」でも取り上げられた。

　宇都宮大によると、回路はレーザー光を使って半導体の表面に描く。波長が短いほど細い線を描けるが、最先端の装置でも波長は１９３ナノメートル（ナノは１０億分の１）。線の幅は細くて３０ナノメートル程度だ。

　グループは、金属にレーザー光を当てると金属自体からより波長の短い光が出ることに着目。以前から金属のスズで実験していたが、レアアース（希土類）を材料にしたところ６・５～６・７ナノメートルと、より短い波長の光が得られた。幅１０ナノメートル以下の線も描けるという。