日本企業が20億円出資、清華大に「電子工程館」建設へ―北京市

2008年9月25日、日本の半導体大手・ローム株式会社 （本社・京都市右京区）と中国の清華大学が「清華ローム電子工程館」を共同建設し、半導体などの研究開発と学術交流関係を強化することで合意した。ロームが20億円を出資する。26日付で中国新聞社が伝えた。

清華ローム電子工程館の延床面積は約3．3万平方メートル。09年に着工し、3年以内の完成を目指す。同館には半導体デバイスやLSIの研究・開発スペース、産学連携のための国際交流施設などが設けられ、日中双方の科学研究、人材育成、学術交流の強化を推し進める。【その他の写真】

清華大学とロームは06年に「包括的産学連携契約」に正式合意しており、電子デバイスの共同研究・開発を行ってきた。在中国日本大使館の片山和之公使は25日に行われた式典で、「清華ローム電子工程館は科学研究、学術交流の場となる。日中両国の青年の交流に一役買い、両国国民の友情の証となるだろう」と述べた。（翻訳・編集/汪葉月）

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